LFT系列高溫真空回轉(zhuǎn)爐 該設(shè)備容許粉末樣品在高溫狀態(tài)下動(dòng)態(tài)燒結(jié)處理，配備磁流體密封裝置，使得整個(gè)設(shè)備處于真空狀態(tài)下工作。特殊樣品倉結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，避免傳統(tǒng)回轉(zhuǎn)爐取樣等繁瑣操作，是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在高溫真空添加下處理粉末材料的理想設(shè)備

1400系列真空管式回轉(zhuǎn)爐 該設(shè)備采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。

1200系列三溫區(qū)真空管式爐 采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。。進(jìn)口加熱電阻絲鑲嵌延長(zhǎng)爐體使用壽命，該設(shè)備設(shè)計(jì)為與手套箱對(duì)接使用，樣品可*處于相對(duì)對(duì)立的無水無氧環(huán)境

LFT系列雙溫區(qū)真空管式爐采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)，爐體表面溫度≤60℃，爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。。進(jìn)口加熱電阻絲鑲嵌延長(zhǎng)爐體使用壽命，是專為高等院校﹑科研院所的實(shí)驗(yàn)室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對(duì)金屬，非金屬及其它化合物進(jìn)行燒結(jié)﹑熔化﹑分析而研制的理想設(shè)備。

LFT系列真空退火爐 該設(shè)備爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料，采用電阻絲為加熱元件。加熱元件與爐管平行，均勻地分布在爐管外，有效的保證了溫場(chǎng)的均勻性。

雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)（含預(yù)熱器） 雙溫區(qū)滑軌爐可移動(dòng)并可實(shí)現(xiàn)快速升降溫；PLC控制5路質(zhì)子流量器，能夠精確控制系統(tǒng)的供氣；真空泵可實(shí)現(xiàn)對(duì)管式爐快速抽真空。CVD（化學(xué)氣象沉積系統(tǒng)）常用于表面材料生長(zhǎng)、沉積，是一款實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備

LFT系列小型滑軌爐（含預(yù)熱裝置） 小巧，升溫速度極快，它不僅可以抽真空,也可以通氣體保護(hù)。其結(jié)構(gòu)使得拆裝爐管方便，操作簡(jiǎn)捷，使用者可直接將密封腔體移出爐體，加快降溫過程，透明石英管腔體可直觀的看到樣品燒結(jié)狀態(tài)。

雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng) 雙溫區(qū)滑軌爐可移動(dòng)并可實(shí)現(xiàn)快速升降溫；PLC控制5路質(zhì)子流量器，能夠精確控制系統(tǒng)的供氣；真空泵可實(shí)現(xiàn)對(duì)管式爐快速抽真空。CVD（化學(xué)氣象沉積系統(tǒng)）常用于表面材料生長(zhǎng)、沉積，是一款實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備